<?xml version="1.0" encoding="utf-8"?><rss version="2.0"><channel><title><![CDATA[Semicorex Advanced Material Technology Co., Ltd.]]></title><category><![CDATA[Semicorex Advanced Material Technology Co., Ltd.]]></category><description><![CDATA[Semicorex jest jednym z wiodących producentów i dostawców w Chinach, specjalizującym się w produkcji elementów powlekanych węglikiem krzemu, ceramiki z węglika krzemu, elementów półprzewodnikowych itp. Możemy szybko zapewnić klientom zapewnienie jakości. Możesz mieć pewność, że kupisz produkty z naszej fabryki, a my zaoferujemy Ci najlepszą obsługę posprzedażną i terminową dostawę.]]></description><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com]]></link><language>pl</language><pubDate>9/13/2026 4:43:56 AM</pubDate><lastBuildDate>9/13/2026 4:43:56 AM</lastBuildDate><item><title><![CDATA[Co to jest półprzewodnik?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-89.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-03-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak klasyfikować półprzewodniki]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-90.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-03-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest epitaksja SiC?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-91.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest epitaksjalny proces waflowy?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-92.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Do czego służą płytki epitaksjalne?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-93.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest system MOCVD?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-94.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jaka jest zaleta węglika krzemu?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-95.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Brak chipów nadal stanowi problem]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-96.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Japonia niedawno ograniczyła eksport 23 rodzajów sprzętu do produkcji półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-583.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proces CVD dla epitaksji płytek SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-586.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Chiny pozostały największym rynkiem sprzętu półprzewodnikowego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-589.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Omówienie pieca CVD]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-591.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-04-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Scenariusze zastosowań dla warstw epitaksjalnych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-596.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[TSMC: Produkcja próbna procesu 2 nm w przyszłym roku]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-601.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Fundusze na projekty półprzewodnikowe]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-605.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Kluczowym wyposażeniem jest MOCVD]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-610.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Znaczący wzrost rynku susceptorów grafitowych powlekanych SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-620.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-23]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Na czym polega proces epitaksji SiC?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-627.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego warto wybrać susceptory grafitowe powlekane SiC?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-632.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-05-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest płytka SiC typu P?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-641.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-06-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Różne rodzaje ceramiki SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-648.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-06-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Koreańskie układy pamięci gwałtownie spadły]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-657.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-06-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest SOI]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-660.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-06-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Znajomość wiosła wspornikowego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-665.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-06-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest CVD dla SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-671.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[PSMC z Tajwanu zbuduje fabrykę płytek 300 mm w Japonii]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-677.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Semicorex przedstawia 8-calowy wafel epitaksjalny SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-685.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Rozpoczęcie produkcji płytek 3C-SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-1383.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[O półprzewodnikowych elementach grzejnych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-1387.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zastosowania przemysłowe GaN]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-1390.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przegląd rozwoju przemysłu fotowoltaicznego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-1676.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-07-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Na czym polega proces CVD w półprzewodnikach?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-1677.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Powłoka TaC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-1678.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest epitaksja w fazie ciekłej?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-1679.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego warto wybrać metodę epitaksji w fazie ciekłej?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-1680.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[O defektach kryształów SiC - Mikropipe]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-1681.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dyslokacja w kryształach SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-1682.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Trawienie na sucho vs trawienie na mokro]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-1683.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Epitaksja SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-1684.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-08-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest grafit izostatyczny?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2172.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak przebiega proces produkcji grafitu izostatycznego?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2179.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to są łopatki wspornikowe?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2183.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest piec dyfuzyjny?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2201.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Czym są susceptory grafitowe pokryte SiC?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2204.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak produkować pręty grafitowe?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2207.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest grafit porowaty?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2209.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Powłoki z węglika tantalu w przemyśle półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2211.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-09-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Sprzęt LPE]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2213.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-10-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Tygiel z powłoką TaC do wzrostu kryształów AlN]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2216.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-10-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Metody wzrostu kryształów AlN]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2218.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-10-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Powłoka TaC metodą CVD]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2221.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-10-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wpływ temperatury na powłoki CVD-SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2224.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-10-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Elementy grzejne z węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2233.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest kwarc?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2234.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Produkty kwarcowe w zastosowaniach półprzewodnikowych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2235.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest kompozyt C/C?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2236.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wprowadzono na rynek produkty epitaksjalne GaN HEMT o dużej mocy 850 V]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2237.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przedstawiamy fizyczny transport pary (PVT)]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2238.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest grafit izostatyczny?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-2239.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-11-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[3 metody formowania grafitu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3007.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-12-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Porowaty grafit do wysokiej jakości wzrostu kryształów SiC metodą PVT]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3008.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-12-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przedstawiamy podstawową technologię łodzi grafitowej]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3009.html]]></link><pubDate><![CDATA[2023-12-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Powłoka w polu termicznym półprzewodnikowych monokryształów krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3144.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-01-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest grafityzacja?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3145.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-01-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przedstawiamy tlenek galu (Ga2O3)]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3244.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-01-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zastosowania płytki z tlenku galu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3245.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-01-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zalety i wady zastosowań azotku galu (GaN).]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3344.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-02-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[GaN kontra SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3346.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-02-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Czy można szlifować węglik krzemu?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3501.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest węglik krzemu (SiC)?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3502.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przemysł węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3503.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie wyzwania wiążą się z produkcją substratów z węglika krzemu?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3504.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest susceptor grafitowy pokryty SiC?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3505.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Materiał izolujący pole termiczne]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3720.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest powłoka TaC na graficie?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3725.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Różnice pomiędzy kryształami SiC o różnych strukturach]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3730.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Pierwsza 6-calowa firma zajmująca się industrializacją substratów z tlenku galu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3735.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-03-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proces cięcia i szlifowania podłoża]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3738.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-04-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zastosowania elementów grafitowych pokrytych TaC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3739.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-04-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Znając MOCVD]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-3741.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-04-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Znaczenie porowatych materiałów grafitowych dla wzrostu kryształów SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4046.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-04-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Kontrola dopingu w sublimacyjnym wzroście SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4048.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-04-30]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zalety SiC w branży EV]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4177.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Warstwy i podłoża epitaksjalne krzemu w produkcji półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4182.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wzrost i perspektywy rynku urządzeń zasilających z węglika krzemu (SiC).]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4185.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Procesy plazmowe w operacjach CVD]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4187.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Znając GaN]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4386.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Kluczowa rola warstw epitaksjalnych w urządzeniach półprzewodnikowych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4387.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Porowaty grafit do wzrostu kryształów SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4388.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Warstwy epitaksjalne: podstawa zaawansowanych urządzeń półprzewodnikowych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4389.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Sposób wytwarzania proszku SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4548.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wprowadzenie do procesu implantacji i wyżarzania jonów węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4557.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest łódź SiC i jakie są jej różne procesy produkcyjne?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4568.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zastosowania węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4578.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wyzwania związane z zastosowaniem i rozwojem komponentów grafitowych pokrytych TaC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4583.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-23]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Piec do wzrostu kryształów węglika krzemu (SiC).]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4607.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Kluczowe parametry podłoży z węglika krzemu (SiC).]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4615.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Główne etapy przetwarzania podłoża SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4625.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Substrat a epitaksja: kluczowa rola w produkcji półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4631.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wprowadzenie do półprzewodników trzeciej generacji: GaN i pokrewne technologie epitaksjalne]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4645.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Trudności w przygotowaniu GaN]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4662.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-05-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Krótka historia węglika krzemu i zastosowania powłok z węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4667.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Technologia epitaksji z węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-4677.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wprowadzenie do urządzeń zasilających z węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-5217.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zalety ceramiki z węglika krzemu w przemyśle światłowodów]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-5218.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zrozumienie technologii suchego trawienia w przemyśle półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-5219.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Podłoże z węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-5424.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Trudność w przygotowaniu podłoży SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-5425.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zrozumienie całego procesu wytwarzania urządzeń półprzewodnikowych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-5426.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Różne zastosowania kwarcu w produkcji półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-5427.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wyzwania technologii implantacji jonów w urządzeniach zasilających SiC i GaN]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-5428.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proces implantacji jonów i dyfuzji]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-5429.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Materiał rdzenia do wzrostu SiC: powłoka z węglika tantalu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-5997.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie są zalety i wady trawienia na sucho i na mokro?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6013.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest proces CMP]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6024.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak przeprowadzić proces CMP]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6028.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-06-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego epitaksja azotku gliu (GaN) nie rośnie na podłożu GaN?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6036.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proces utleniania]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6047.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wolny od defektów wzrost epitaksjalny i dyslokacje niedopasowania]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6056.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Półprzewodniki czwartej generacji tlenek galu/β-Ga2O3]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6066.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zastosowanie SiC i GaN w pojazdach elektrycznych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6074.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Krytyczna rola substratów SiC i wzrostu kryształów w przemyśle półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6089.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przebieg procesu rdzenia podłoża z węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6105.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jaka jest różnica między płytkami epitaksjalnymi i rozproszonymi]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6112.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wafle epitaksjalne z azotku galu: wprowadzenie do procesu produkcyjnego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6120.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Cięcie SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6132.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Łodzie SiC a łodzie kwarcowe: obecne wykorzystanie i przyszłe trendy w produkcji półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6143.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wafel silikonowy]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6156.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zrozumienie chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD): kompleksowy przegląd]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6165.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Podłoże i epitaksja]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6177.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Krzem monokrystaliczny a krzem polikrystaliczny]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6182.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Gruby SiC o wysokiej czystości CVD: spostrzeżenia dotyczące procesu wzrostu materiału]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6192.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Heteroepitaksja 3C-SiC: przegląd]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6206.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proces wzrostu cienkiej warstwy]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6224.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-07-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Technologia uchwytu elektrostatycznego (ESC) w obsłudze płytek]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6232.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest stopień grafityzacji?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6241.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Ceramika z węglika krzemu i ich różnorodne procesy produkcyjne]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6256.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Ceramika SiC: niezbędny materiał do produkcji precyzyjnych komponentów w produkcji półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6278.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Pojedynczy kryształ GaN]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6286.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-09]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Kwarc o wysokiej czystości: niezbędny materiał w przemyśle półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6301.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Metoda wzrostu kryształów GaN]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-6309.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Technologia oczyszczania grafitu w półprzewodniku SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7210.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wyzwania techniczne w piecach do wzrostu kryształów węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7216.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przegląd 9 technik spiekania ceramiki z węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7222.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie zastosowania podłoża z azotku galu (GaN)?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7230.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Postęp badań powłok TaC na powierzchniach materiałów węglowych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7237.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Technologia produkcji grafitu izostatycznego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7255.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-23]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest pole termiczne?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7263.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[GaN i SiC: współistnienie czy substytucja?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7272.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest uchwyt elektrostatyczny (ESC)?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7281.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-08-30]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Specjalistyczne techniki przygotowania ceramiki z węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7286.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-02]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zrozumienie różnic w trawieniu pomiędzy płytkami krzemu i węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7826.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest azotek krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7827.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego warto wybrać spiekanie bezciśnieniowe do przygotowania ceramiki SiC?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7828.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Analiza zastosowań i perspektyw rozwoju ceramiki SiC w sektorze półprzewodników i fotowoltaiki]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7829.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-09]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Utlenianie w przetwarzaniu półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7830.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Produkcja krzemu monokrystalicznego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7831.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest system pieca do wzrostu kryształów]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7833.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Badanie rozkładu oporności elektrycznej w kryształach 4H-SiC typu n]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7834.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak stosuje się ceramikę z węglika krzemu i jaka jest jej przyszłość w zakresie odporności na zużycie i wysoką temperaturę?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7835.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego warto stosować czyszczenie ultradźwiękowe w produkcji półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7836.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-23]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Badanie ceramiki SiC spiekanej reakcyjnie i jej właściwości]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7837.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest wyżarzanie termiczne]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7838.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Osiąganie wysokiej jakości wzrostu kryształów SiC poprzez kontrolę gradientu temperatury w początkowej fazie wzrostu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-7839.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-09-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Produkcja chipów: procesy cienkowarstwowe]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-8450.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak właściwie produkowane są ceramiczne uchwyty elektrostatyczne?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-8451.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Procesy wyżarzania w nowoczesnej produkcji półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-8452.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego w przemyśle półprzewodników rośnie zapotrzebowanie na ceramikę SiC o wysokiej przewodności cieplnej?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-8453.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przedstawiamy materiał silikonowy]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-8454.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przetwarzanie podłoża monokrystalicznego SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-8455.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Orientacja kryształów i defekty płytek krzemowych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-8456.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Polerowanie powierzchni płytek krzemowych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-8457.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Fatalna wada GaN]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-8458.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Końcowe polerowanie powierzchni płytki krzemowej]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-8459.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak wytwarzany jest węglik krzemu?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9407.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-10-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wolfspeed wstrzymuje plany budowy niemieckich fabryk półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9408.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Struktura uchwytu elektrostatycznego (ESC)]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9409.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest trawienie plazmowe w niskiej temperaturze?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9410.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Homoepitaksja i heteroepitaksja wyjaśnione w prosty sposób]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9411.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Susceptory pokryte SiC w procesach MOCVD]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9412.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zastosowanie kompozytu włókna węglowego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9413.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Technologia Semicorex dla grafitu specjalnego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9414.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Badanie przyszłych perspektyw krzemowych chipów półprzewodnikowych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9415.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie są zastosowania powłok SiC i TaC w dziedzinie półprzewodników?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9416.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[SK Siltron zwiększa produkcję płytek SiC dzięki pożyczce o wartości 544 milionów dolarów od Departamentu Energii USA]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9417.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zastosowanie GaN]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9418.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest Dummy Wafer]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9419.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wykrywanie defektów w przetwarzaniu płytek z węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9420.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proces PECVD]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9421.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-11-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proces domieszkowania półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9422.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Połączenie sztucznej inteligencji i fizyki: innowacja technologiczna CVD kryjąca się za Nagrodą Nobla]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9423.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Parametry procesu trawienia]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9424.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jaka jest różnica między grafityzacją a karbonizacją]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9425.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Prawie 840 milionów dolarów: Onsemi przejmuje firmę SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9426.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Syntetyzowanie proszku węglika krzemu o wysokiej czystości]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9427.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jednostka w półprzewodniku: Angstrem]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9428.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[SiGe w produkcji chipów: profesjonalny raport informacyjny]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9429.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Technologia wytrawiania selektywnego SiGe i Si]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9430.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wzrost kryształów AlN metodą PVT]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9431.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Hierarchiczne porowate materiały węglowe: synteza i wprowadzenie]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9432.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wyżarzanie]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9433.html]]></link><pubDate><![CDATA[2024-12-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Na czym polega technologia implantacji jonów półprzewodnikowych?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9434.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-02]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest atrapa wafla?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9435.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-02]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie wyzwania wiążą się z produkcją SiC?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9436.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Produkcja wafli]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9437.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Czochralski method]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9438.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Perspektywy zastosowania 12-calowych podłoży z węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9439.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zastosowania węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-9440.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zalety powłoki TAC w SIC pojedynczy wzrost]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-10613.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-01-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak zaawansowane materiały rozwiązują 3 krytyczne wyzwania w projektowaniu pieca półprzewodnikowego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-10614.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-02-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie są zastosowania krzemowych błon ceramicznych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-10615.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-02-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wewnętrzny krzem]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-10616.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-02-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Krzemowa membrana ceramiczna: nowa membrana separacyjna, która ma zastąpić różne membrany nieorganiczne]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-10617.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-03-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Tygle pokryte TAC w wzroście kryształów SIC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-10618.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-03-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest szklana powłoka węglowa]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-10619.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-03-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Krzemowy krzemowa klasa elektroniczna proszek]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-10620.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-03-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest grzejnik ALN]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-10937.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-03-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Części ceramiczne półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-10938.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-04-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[LPE jest ważną metodą przygotowywania typu P-SIC typu P-SIC typu p i pojedynczego kryształu 3C-SIC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-10939.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-04-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Ceramiczne grzejniki]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-10940.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-04-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przemysł urządzeń energetycznych krzemowych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11245.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-04-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wprowadzenie materiału aluminiowego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11248.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-04-30]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Membrany ceramiczne dysk]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11251.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-05-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Półprzewodniki prysznicowe]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11254.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-05-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Precyzyjne elementy ceramiczne w półprzewodnikach]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11258.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-05-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Technologia domieszkowania krzemu FZ]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11262.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-05-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Metoda syntezy proszku z węglików krzemowych (SIC)]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11265.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-06-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proces formowania kompozytowego węglowego/węglowego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11267.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-06-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zastosowania materiału PBN]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11270.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-06-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przewodzące gailery grafitowe]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11272.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-07-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego kwarc musi być wyżarzany]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11274.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-07-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zmiany rynku gan]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11276.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-07-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Produkty grafitowe do pieca próżniowego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11278.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-07-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Główne elementy ceramiczne w produkcji półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11280.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-07-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jaka jest różnica między domieszkowaniem arsenu a domieszkowaniem fosforu w pojedynczym krzemowym krzem]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11282.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-08-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Substrat ceramiczny azotku krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11833.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-08-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Łódź waflowa krzemowa]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11838.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-08-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie są trudności techniczne pieca wzrostu SIC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11922.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-08-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest proces dyfuzji]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-11974.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest membrana dyskowa z węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12066.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego grafit izostatyczny jest powszechnie chwalony na rynku materiałów?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12076.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Podłoża z tlenku glinu do opakowań elektronicznych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12088.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie jest naprężenie części ze szkła kwarcowego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12099.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie są cechy ceramiki z czarnego tlenku glinu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12110.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest chemiczne osadzanie z fazy gazowej?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12121.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak podłoża ceramiczne wspierają samochodowe moduły zasilania]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12132.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest krojenie plazmowe？]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12144.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-09-30]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Czym są pierścienie w trawieniu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12157.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest ceramika z rekrystalizowanego węglika krzemu?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12168.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Głowice prysznicowe w trawieniu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12180.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Na czym polega technologia łączenia płytek?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12190.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wprowadzenie do trzech typów procesów utleniania]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12203.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przetwarzanie wlewków SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12214.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Różnica między obojętnymi, badawczymi i produkcyjnymi podłożami SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12225.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Komponenty silikonowe do trawienia na sucho]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12236.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Na jakie wskaźniki należy zwrócić uwagę przy wyborze odpowiednich wafli?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12246.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Ceramiczny uchwyt próżniowy]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12258.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-10-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest proces dopingowy?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12267.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-02]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Obróbka powierzchniowa dla wysokiej klasy uchwytu elektrostatycznego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12280.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-02]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest SOI?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12293.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Kryształy SiC przygotowane metodą PVT]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12304.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest aerostatyczna prowadnica z węglika krzemu?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12316.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego ściany boczne wyginają się podczas trawienia na sucho]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12328.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Podstawowe parametry trawienia na sucho]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12338.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Na czym polega proces epitaksji krzemowej?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12349.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest tuleja samosmarująca]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12361.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego CO2 jest wprowadzany podczas procesu piłowania płytek]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12372.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Czym są osadzanie się i erozja w procesie CMP?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12382.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Trawienie i wytrawiona morfologia]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12388.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-25]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[W jaki sposób powłoka TaC chroni elementy grafitowe w półprzewodnikach]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12396.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie jest nacięcie na waflach?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-12399.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-11-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Krzem, węglik krzemu i azotek galu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-13622.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[W jaki sposób generowane jest naprężenie w półprzewodnikowych produktach kwarcowych?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-13624.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Tygiel z topionego kwarcu o wysokiej czystości do ciągnięcia monokryształów]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-13625.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak wybrać odpowiedni sztywny filc do paneli dźwiękochłonnych i akustycznych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-13626.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego piece pionowe stały się głównym wyborem?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-13953.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie są defekty cząstek?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-13963.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Ceramiczne uszczelnienia mechaniczne SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-13977.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jaka jest funkcja pierścieni ostrości?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-13993.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie są materiały półprzewodnikowe pierwszej, drugiej, trzeciej i czwartej generacji?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14007.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Proces przygotowania ceramiki SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14017.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-23]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest czyszczenie płytek półprzewodnikowych?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14030.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Spiekanie ceramiki z tlenku glinu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14043.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Czym są wafle szklane?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14058.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Podłoża ceramiczne: Al₂O₃, AlN, Si₃N₄]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14070.html]]></link><pubDate><![CDATA[2025-12-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Energia słoneczna oświetla życie]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14080.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest wałek pływający na powietrzu?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14093.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-09]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przegląd podłoży SOI]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14107.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-09]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Analiza układów hamulcowych z kompozytu węglowo-ceramicznego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14119.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest system uszczelnienia suchym gazem?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14130.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie są membrany ceramiczne z węglika krzemu?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14142.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Czy hamulce węglowo-ceramiczne są lepsze?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14152.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak produkowane są półprzewodnikowe rury do pieca kwarcowego?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14159.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-23]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Porowaty uchwyt próżniowy z tlenku glinu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14168.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego membrany SiC cieszą się tak dużym zainteresowaniem?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14855.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-30]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to są węglowo-ceramiczne tarcze hamulcowe?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14867.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-01-30]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Filc na bazie wiskozy w piecu indukcyjnym]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14881.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-02-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie wyzwania wiążą się z produkcją podłoży SiC?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14893.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-02-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest węglik krzemu?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14906.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-02-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Filc węglowy w piecu indukcyjnym - część 2]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14913.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-02-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Modyfikacja włókna węglowego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14919.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-02-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Typowe komponenty i zastosowania kwarcu półprzewodnikowego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-14922.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-02-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Łódki z węglika krzemu: „niewidzialni strażnicy płytek” w branży półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-15265.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-03-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Główne metody odklejania]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-15281.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-03-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie są kompozyty węglowo-ceramiczne?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-15291.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-03-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Rozwój rynku materiałów węglowo-ceramicznych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-15302.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-03-06]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Ceramika z węglika tantalu – kluczowy materiał w półprzewodnikach i przemyśle lotniczym.]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-15314.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-03-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie są procesy LPCVD?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-15327.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-03-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Nowe wyniki badań nad grafenem]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news-show-15338.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-03-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Krótkie wprowadzenie płytek grafitowych o wysokiej czystości]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/brief-introduction-of-high-purity-graphite-plates.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-03-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Krótkie wprowadzenie do atrap wafli]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/a-brief-introduction-to-dummy-wafers.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-03-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jaki jest gradient temperatury w polu termicznym?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/what-is-the-temperature-gradient-in-the-thermal-field.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-03-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Szczegółowe wyjaśnienie technologii procesowej półprzewodników CVD SiC (część I)]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/detailed-explanation-of-semiconductor-cvd-sic-process-technology-part-i.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-03-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak wybrać optymalne produkty grafitowe do swojego zastosowania?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/how-to-select-the-optimal-graphite-products-for-your-application.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-04-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Szczegółowe wyjaśnienie technologii procesowej półprzewodników CVD SiC (część Ⅱ)]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/detailed-explanation-of-semiconductor-cvd-sic-process-technology-part.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-04-09]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Technologia procesowa półprzewodników CVD SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/semiconductor-cvd-sic-process-technology.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-04-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego powłoka z węglika krzemu jest mądrzejszym wyborem w wymagających środowiskach procesowych?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/why-is-silicon-carbide-coated-a-smarter-choice-for-demanding-process-environments.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-04-14]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie są różnice między epitaksją a CVD]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/what-are-the-differences-between-epitaxy-and-cvd.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-04-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Właściwości i zastosowania półprzewodników ceramiki z węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/properties-and-semiconductor-applications-of-silicon-carbide-ceramics.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-04-19]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Materiał termoizolacyjny z włókna węglowego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/carbon-fiber-thermal-insulation-material.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-04-20]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Krótkie wprowadzenie do procesu wytwarzania płytek SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/brief-introduction-to-sic-wafer-fabrication-process.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-04-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Kluczowe technologie materiałów kompozytowych węgiel/węgiel]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/key-technologies-of-carbon-carbon-composite-materials.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-04-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Optymalizacja projektu pola cieplnego dla pieca epitaksjalnego SiC (reaktor CVD z gorącymi ścianami)]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/optimization-of-thermal-field-design-for-sic-epitaxial-furnace-hot-wall-cvd-reactor.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-05-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Ceramiczne uchwyty próżniowe]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/ceramic-vacuum-chucks.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-05-13]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jakie role odgrywa proces wyżarzania?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/what-roles-does-the-annealing-process-play.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-05-15]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego pierścień ostrości jest niezbędny w sprzęcie do trawienia?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/why-focus-ring-is-indispensable-for-etching-equipment.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-05-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Krótkie wprowadzenie do płytek krzemowych o wysokiej rezystancji]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/brief-introduction-to-high-resistivity-silicon-wafers.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-05-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Semicorex Ceramic stosowany w obróbce półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/semicorex-ceramic-applied-in-semiconductor-processing.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-05-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Główne rodzaje utleniania termicznego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/main-types-of-thermal-oxidation.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-05-29]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Przyczyny rozbieżności między praktyczną i teoretyczną przewodnością cieplną ceramiki z azotku krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/reasons-for-the-gap-between-practical-and-theoretical-thermal-conductivity-of-silicon-nitride-ceramics.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-06-04]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Technologia procesu trawienia półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/semiconductor-etching-process-technology.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-06-05]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego porowate uchwyty z tlenku glinu stają się preferowanym wyborem w przypadku precyzyjnej produkcji półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/why-are-porous-alumina-chucks-becoming-the-preferred-choice-for-precision-semiconductor-manufacturing.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-06-09]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Procesory graficzne NVIDIA Rubin całkowicie przechodzą na grafenowe podkładki termiczne]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/nvidia-rubin-gpus-fully-switch-to-graphene-thermal-pads.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-06-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Podstawowe zastosowania elementów ceramicznych z tlenku glinu w półprzewodnikach]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/core-applications-of-alumina-ceramic-components-in-the-semiconductor.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-06-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Czy łopatki wspornikowe z węglika krzemu są najlepszym rozwiązaniem do wysokotemperaturowego przetwarzania półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/are-silicon-carbide-cantilever-paddles-the-ultimate-solution-for-high-temperature-semiconductor-processing.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-06-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego powłoki CVD SiC są koniecznością dla susceptorów grafitowych MOCVD?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/why-are-cvd-sic-coatings-a-must-for-mocvd-graphite-susceptors.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-06-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego dostosowany porowaty uchwyt ceramiczny to najlepsze rozwiązanie do precyzyjnej produkcji półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/why-is-a-customized-porous-ceramic-chuck-the-ultimate-solution-for-high-precision-semiconductor-manufacturing.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-06-23]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Historia rozwoju membran ceramicznych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/development-history-of-ceramic-membranes.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-06-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak ważne są łodzie waflowe z węglika krzemu?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/how-important-are-silicon-carbide-wafer-boats.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-06-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Czy cylindry izolacyjne ze sztywnego filcu grafitowego stanowią najlepsze rozwiązanie w zakresie izolacji wysokotemperaturowej dla nowoczesnych systemów cieplnych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/are-graphite-rigid-felt-insulation-cylinders-the-ultimate-high-temperature-insulation-solution-for-modern-thermal-systems.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-01]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[System pola cieplnego na bazie węgla]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/carbon-based-thermal-field-system.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-02]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wprowadzenie zbiorników czyszczących ze stopionego kwarcu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/introduction-of-fused-quartz-cleaning-tanks.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Różnice między uchwytami próżniowymi a uchwytami elektrostatycznymi]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/differences-between-vacuum-chucks-and-electrostatic-chucks.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Komponenty Semicorex SiC w piecu wysokotemperaturowym]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/semicorex-sic-components-in-high-temperature-furnace.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-08]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Porównanie trzech głównych pierścieni ostrości]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/three-mainstream-focus-rings-comparison.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-09]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego susceptory z płytek grafitowych powlekanych TaC stają się niezbędne w zaawansowanej produkcji półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/why-are-tac-coated-graphite-wafer-susceptors-becoming-essential-for-advanced-semiconductor-manufacturing.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Łódka z węglika krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/silicon-carbide-wafer-boat.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-10]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Po co stosować powłokę CVD SiC na susceptory grafitowe?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/why-apply-cvd-sic-coating-to-graphite-susceptors.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Krótkie wprowadzenie do szybkiego wyżarzania termicznego]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/brief-introduction-of-rapid-thermal-annealing.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-16]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Reaktor piecowy półprzewodnikowy]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/semiconductor-furnace-reactor.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Różnice strukturalne pomiędzy różnymi typami reaktorów]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/structural-differences-between-different-types-of-reactors.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak uchwyty ceramiczne z tlenku glinu eliminują elektryczność statyczną i zanieczyszczenia podczas trawienia płytek?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/how-alumina-ceramic-chucks-eliminate-static-electricity-and-contamination-during-wafer-etching.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Powody stosowania fałszywych płytek w procesach FUR]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/reasons-for-deploying-dummy-wafers-in-fur-processes.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Uszczelnienia mechaniczne SiC]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/sic-mechanical-seals.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-22]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest uszczelnienie mechaniczne]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/what-is-mechanical-seal.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-24]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Powód dozowania tlenu śladowego w procesie wyżarzania w piecu wysokotemperaturowym]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/the-reason-for-dosing-trace-oxygen-in-high-temperature-furnace-annealing.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-27]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[W jaki sposób porowaty grafit do łożysk pływających w powietrzu może poprawić wydajność precyzyjnego ruchu w zaawansowanej produkcji]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/how-can-porous-graphite-for-air-floating-bearings-improve-precision-motion-performance-in-advanced-manufacturing.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-28]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Mechanizmy powstawania dyslokacji w późnym stadium wzrostu kryształów krzemu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/dislocation-formation-mechanisms-in-late-stage-silicon-crystal-growth.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-30]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Różne klasyfikacje grafitu o wysokiej czystości]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/different-classifications-of-high-purity-graphite.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-07-31]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego dyslokacje wpływają na wytrzymałość mechaniczną krzemu monokrystalicznego?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/why-do-dislocations-affect-the-mechanical-strength-of-monocrystalline-silicon.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Wymagania dotyczące piasku kwarcowego w produkcji tygli kwarcowych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/requirements-for-quartz-sand-in-quartz-crucible-manufacturing.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-03]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego jest<100>Orientowany krzem monokrystaliczny „optymalnym wyborem” dla przemysłu półprzewodników?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/why-is-100-oriented-monocrystalline-silicon-the-optimal-choice-for-the-semiconductor-industry.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Pirolityczna powłoka węglowa - zbroja węglowa wyhodowana z gazu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/pyrolytic-carbon-coating-carbon-armor-grown-from-gas.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-07]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[W jaki sposób uszczelki z węglika krzemu mogą poprawić wydajność w ekstremalnych zastosowaniach przemysłowych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/how-can-silicon-carbide-seals-improve-performance-in-extreme-industrial-applications.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-11]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Co to jest krystalizator grafitowy]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/what-is-graphite-crystallizer.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Krótkie wprowadzenie do powłoki z węglika tantalu]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/a-brief-introduction-to-tantalum-carbide-coating.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Krótkie wprowadzenie do półprzewodnikowej głowicy prysznicowej]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/a-brief-introduction-to-semiconductor-showerhead.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-12]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Dlaczego powlekany grafit izostatyczny jest preferowanym rozwiązaniem w branży?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/why-is-coated-isostatic-graphite-the-industry-s-preferred-solution.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-17]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jak wybrać gatunek grafitu do różnych odlewów metali]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/how-to-select-graphite-grade-for-different-metal-casting.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Zastosowania ceramiki precyzyjnej w dziedzinie półprzewodników]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/applications-of-precision-ceramics-in-the-semiconductor-field.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-18]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Do czego wykorzystuje się kwarc w półprzewodnikach?]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/what-is-quartz-used-for-in-semiconductor.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-21]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Czy łodzie grafitowe PECVD mogą być kluczem do bardziej spójnego i wydajnego powlekania ogniw słonecznych]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/could-pecvd-graphite-boats-be-the-key-to-more-consistent-and-efficient-solar-cell-coating.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-26]]></pubDate></item><item><title><![CDATA[Jaka jest rola płytek bipolarnych w ogniwie paliwowym]]></title><link><![CDATA[https://pl.semicorex.com/news/what-is-the-role-of-bipolar-plates-in-a-fuel-cell.html]]></link><pubDate><![CDATA[2026-08-26]]></pubDate></item></channel></rss>