Parametry procesu trawienia

Akwafortato krytyczny etap w produkcji chipów, używany do tworzenia drobnych struktur obwodów na płytkach krzemowych. Polega na usunięciu warstw materiału za pomocą środków chemicznych lub fizycznych, aby spełnić określone wymagania projektowe. W tym artykule przedstawiono kilka kluczowych parametrów trawienia, w tym niepełne trawienie, nadmierne trawienie, szybkość trawienia, podcięcie, selektywność, jednorodność, współczynnik kształtu i trawienie izotropowe/anizotropowe.

Co jest niekompletneAkwaforta?

Niekompletne trawienie ma miejsce, gdy materiał w wyznaczonym obszarze nie zostanie całkowicie usunięty podczas procesu trawienia, pozostawiając resztkowe warstwy w wzorzystych otworach lub na powierzchniach. Sytuacja ta może wynikać z różnych czynników, takich jak niewystarczający czas trawienia lub nierówna grubość warstwy.

Nad-Akwaforta

Aby zapewnić całkowite usunięcie całego niezbędnego materiału i uwzględnić różnice w grubości warstwy powierzchniowej, w projekcie zazwyczaj uwzględnia się pewną ilość nadmiernego trawienia. Oznacza to, że rzeczywista głębokość trawienia przekracza wartość docelową. Odpowiednie wytrawienie jest niezbędne do pomyślnej realizacji kolejnych procesów.

RyćWskaźnik

Szybkość trawienia odnosi się do grubości materiału usuwanego w jednostce czasu i jest kluczowym wskaźnikiem efektywności trawienia. Powszechnym zjawiskiem jest efekt ładowania, w którym niewystarczająca ilość reaktywnej plazmy prowadzi do zmniejszonej szybkości trawienia lub nierównomiernego rozkładu trawienia. Można to poprawić, dostosowując warunki procesu, takie jak ciśnienie i moc.

Podcięcie

Podcięcie ma miejsce, gdyakwafortazachodzi nie tylko w obszarze docelowym, ale także rozciąga się w dół wzdłuż krawędzi fotomaski. Zjawisko to może powodować nachylenie ścian bocznych, wpływając na dokładność wymiarową urządzenia. Kontrolowanie przepływu gazu i czasu trawienia pomaga ograniczyć występowanie podcięć.

Selektywność

Selektywność to stosunekryćszybkości pomiędzy dwoma różnymi materiałami w tych samych warunkach. Wysoka selektywność umożliwia bardziej precyzyjną kontrolę nad tym, które części zostaną wytrawione, a które zachowane, co ma kluczowe znaczenie przy tworzeniu złożonych struktur wielowarstwowych.

Jednolitość

Jednorodność mierzy spójność efektów trawienia na całej płytce lub pomiędzy partiami. Dobra jednorodność zapewnia, że ​​każdy chip ma podobne właściwości elektryczne.

Współczynnik proporcji

Proporcje obrazu definiuje się jako stosunek wysokości obiektu do szerokości. Wraz z rozwojem technologii rośnie zapotrzebowanie na wyższe współczynniki proporcji, aby urządzenia były bardziej kompaktowe i wydajne. Stanowi to jednak wyzwanie dlaakwaforta, ponieważ wymaga zachowania pionowości przy jednoczesnym unikaniu nadmiernej erozji na dnie.

Jak izotropowy i anizotropowyAkwafortaRóżnić się?

Izotropowyakwafortawystępuje równomiernie we wszystkich kierunkach i jest odpowiedni do określonych zastosowań. Natomiast trawienie anizotropowe postępuje przede wszystkim w kierunku pionowym, co czyni go idealnym do tworzenia precyzyjnych struktur trójwymiarowych. Nowoczesna produkcja układów scalonych często faworyzuje tę drugą opcję ze względu na lepszą kontrolę kształtu.

Semicorex oferuje wysokiej jakości rozwiązania SiC/TaC dla półprzewodnikówTrawienie ICP/PSS i trawienie plazmoweproces. Jeśli masz jakiekolwiek pytania lub potrzebujesz dodatkowych szczegółów, nie wahaj się z nami skontaktować.

Numer telefonu kontaktowego +86-13567891907

E-mail: sales@semicorex.com