Susceptory beczkowe są krytycznym elementem stosowanym w różnych procesach produkcji półprzewodników, takich jak LPE, MOCVD. Semicorex nakłada węglik krzemu o wysokiej czystości cienkimi warstwami na grafit za pomocą procesu chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD), dzięki czemu materiał ten jest materiałem półprzewodnikowym o doskonałej stabilności termicznej, odporności chemicznej i odporności na zużycie, co czyni go idealnym do stosowania w wysokich procesy temperaturowe.
● Grafit pokryty SiC o wysokiej czystości
● Doskonała odporność na ciepło i chemikalia
● Wysoka równomierność termiczna
● Doskonała odporność na zużycie
Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor to skrupulatnie zaprojektowany komponent dostosowany do zaawansowanych procesów produkcji półprzewodników, w szczególności epitaksji. Nasze produkty mają dobrą przewagę cenową i obejmują większość rynków europejskich i amerykańskich. Z niecierpliwością czekamy na zostanie Twoim długoterminowym partnerem w Chinach.
Czytaj więcejWyślij zapytanieGrafit powlekany węglikiem krzemu Semicorex Barrel Susceptor to specjalistyczny komponent przeznaczony do stosowania w procesie epitaksji, szczególnie do przenoszenia płytek. Skontaktuj się z nami już dziś, aby dowiedzieć się więcej o tym, jak możemy Ci pomóc w zakresie przetwarzania płytek półprzewodnikowych.
Czytaj więcejWyślij zapytanieSusceptor beczkowy Semicorex SiC do wzrostu epitaksjalnego LPE to produkt o wysokiej wydajności, zaprojektowany w celu zapewnienia stałej i niezawodnej wydajności przez dłuższy czas. Jego równomierny profil termiczny, laminarny przepływ gazu i zapobieganie zanieczyszczeniom sprawiają, że jest to idealny wybór do hodowli wysokiej jakości warstw epitaksjalnych na wiórach waflowych. Możliwość dostosowania i opłacalność sprawiają, że jest to produkt wysoce konkurencyjny na rynku.
Czytaj więcejWyślij zapytanieSemicorex Barrel Susceptor Epi System to wysokiej jakości produkt zapewniający doskonałą przyczepność powłoki, wysoką czystość i odporność na utlenianie w wysokiej temperaturze. Jego równomierny profil termiczny, laminarny przepływ gazu i zapobieganie zanieczyszczeniom sprawiają, że jest to idealny wybór do wzrostu warstw epiksjalnych na wiórach waflowych. Jego opłacalność i możliwość dostosowania sprawiają, że jest to produkt wysoce konkurencyjny na rynku.
Czytaj więcejWyślij zapytanieSystem reaktorów do epitaksji fazy ciekłej (LPE) Semicorex to innowacyjny produkt, który zapewnia doskonałe parametry termiczne, równomierny profil termiczny i doskonałą przyczepność powłoki. Wysoka czystość, odporność na utlenianie w wysokiej temperaturze i odporność na korozję sprawiają, że jest to idealny wybór do stosowania w przemyśle półprzewodników. Możliwość dostosowania opcji i opłacalność sprawiają, że jest to produkt wysoce konkurencyjny na rynku.
Czytaj więcejWyślij zapytanieSemicorex CVD Epitaksjalne osadzanie w reaktorze beczkowym to bardzo trwały i niezawodny produkt do hodowli warstw epiksjalnych na chipach waflowych. Jego odporność na utlenianie w wysokiej temperaturze i wysoka czystość sprawiają, że nadaje się do stosowania w przemyśle półprzewodników. Jego równomierny profil termiczny, laminarny przepływ gazu i zapobieganie zanieczyszczeniom sprawiają, że jest to idealny wybór do wysokiej jakości wzrostu warstwy epiksjalnej.
Czytaj więcejWyślij zapytanie