Susceptory beczkowe są krytycznym elementem stosowanym w różnych procesach produkcji półprzewodników, takich jak LPE, MOCVD. Semicorex nakłada cienkie warstwy węglika krzemu o wysokiej czystości na grafit za pomocą procesu chemicznego osadzania z fazy gazowej (CVD), dzięki czemu półprzewodnikowy gatunek materiału ma doskonałą stabilność termiczną, odporność chemiczną i odporność na zużycie, dzięki czemu idealnie nadaje się do stosowania w procesy temperaturowe.
â Grafit powlekany SiC o wysokiej czystości
â Doskonała odporność na ciepło i chemikalia
â Wysoka jednorodność termiczna
â Doskonała odporność na zużycie
Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor to skrupulatnie zaprojektowany komponent dostosowany do zaawansowanych procesów produkcji półprzewodników, w szczególności epitaksji. Nasze produkty mają dobrą przewagę cenową i obejmują większość rynków europejskich i amerykańskich. Z niecierpliwością czekamy na zostanie Twoim długoterminowym partnerem w Chinach.
Czytaj więcejWyślij zapytanieGrafit powlekany węglikiem krzemu Semicorex Barrel Susceptor to specjalistyczny komponent przeznaczony do stosowania w procesie epitaksji, szczególnie do przenoszenia płytek. Skontaktuj się z nami już dziś, aby dowiedzieć się więcej o tym, jak możemy Ci pomóc w zakresie przetwarzania płytek półprzewodnikowych.
Czytaj więcejWyślij zapytanieSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor for LPE Epitaksial Growth to wysokowydajny produkt zaprojektowany w celu zapewnienia stałego i niezawodnego działania przez dłuższy czas. Równomierny profil termiczny, laminarny przepływ gazu i zapobieganie zanieczyszczeniom sprawiają, że jest to idealny wybór do wzrostu wysokiej jakości warstw epitaksjalnych na chipach waflowych. Jego możliwości dostosowywania i opłacalność sprawiają, że jest to wysoce konkurencyjny produkt na rynku.
Czytaj więcejWyślij zapytanieSemicorex Barrel Susceptor Epi System for LPE Epitaxy to wysokiej jakości produkt, który zapewnia doskonałą przyczepność powłoki, wysoką czystość i odporność na utlenianie w wysokich temperaturach. Równomierny profil termiczny, laminarny przepływ gazu i zapobieganie zanieczyszczeniom sprawiają, że jest to idealny wybór do wzrostu warstw epiksjalnych na chipach waflowych. Jego opłacalność i możliwości dostosowywania sprawiają, że jest to wysoce konkurencyjny produkt na rynku.
Czytaj więcejWyślij zapytanieSemicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactor System to innowacyjny produkt, który oferuje doskonałe właściwości termiczne, równomierny profil termiczny i doskonałą przyczepność powłoki. Jego wysoka czystość, odporność na utlenianie w wysokich temperaturach i odporność na korozję sprawiają, że jest to idealny wybór do stosowania w przemyśle półprzewodnikowym. Jego konfigurowalne opcje i opłacalność sprawiają, że jest to wysoce konkurencyjny produkt na rynku.
Czytaj więcejWyślij zapytanieSemicorex CVD Epitaksjalne osadzanie w reaktorze beczkowym to wysoce trwały i niezawodny produkt do hodowli warstw epiksjalnych na chipach waflowych. Jego odporność na utlenianie w wysokich temperaturach i wysoka czystość sprawiają, że nadaje się do stosowania w przemyśle półprzewodników. Równomierny profil termiczny, laminarny przepływ gazów i zapobieganie zanieczyszczeniom sprawiają, że jest to idealny wybór do wysokiej jakości wzrostu warstwy epiksjalnej.
Czytaj więcejWyślij zapytanie