Posiadacz waflowy CVD

Posiadacz waflowy powłoki Semicorex CVD jest częścią o wysokiej wydajności, zaprojektowaną do wspierania i utrzymywania płytek podczas precyzyjnego wzrostu materiałów półprzewodnikowych przy użyciu procesów epitaxy. Jest on pokryty tantalum węglika (TAC), co przyczynia się do jego zaległej trwałości i niezawodności w wymagających warunkach.

Kluczowe funkcje:

Powłoka z węglikiem tantalu: Powłoka uchwytu wafla z węglikiem tantalu (TAC) wynika z jego twardości, odporności na zużycie i stabilności termicznej. Ta powłoka znacząco przyczynia się do zdolności produktu do oporu surowych środowisk chemicznych, a także wysokich temperatur i znajduje zastosowanie w noszeniu dokładnie tego, co jest wymagane z produkcji półprzewodników.

Technologia powlekania nadkrytycznego: powłoka jest stosowana przy użyciu metody składania płynów nadkrytycznych, która gwarantuje jednolitą i gęstą warstwę TAC. Zaawansowana technologia powlekania zapewnia lepszą redukcję przyczepności i defektów, zapewniając wysokiej jakości, długotrwałą powłokę o pewnej długowieczności.

Grubość powłoki: powłoka TAC może osiągnąć grubość do 120 mikronów, zapewniając idealną równowagę trwałości i precyzji. Ta grubość zapewnia, że ​​uchwyt wafla może wytrzymać wysokie temperatury, ciśnienia i środowiska reaktywne bez uszczerbku dla jego integralności strukturalnej.

Doskonała stabilność termiczna: powłoka z węglikiem tantalu oferuje wyjątkową stabilność termiczną, umożliwiając niezawodne działanie w wysokiej temperaturze w warunkach wysokotemperaturowych typowych dla procesów epitaksji półprzewodników. Ta funkcja ma kluczowe znaczenie dla utrzymania spójnych wyników i zapewnienia jakości materiału półprzewodnikowego.

Korozja i odporność na zużycie: powłoka TAC zapewnia doskonałą odporność na korozję i zużycie, zapewniając, że uchwyt wafla może znosić ekspozycję na gazy reaktywne i chemikalia powszechnie występujące w procesach półprzewodnikowych. Trwałość ta rozszerza żywotność produktu i zmniejsza potrzebę częstego wymiany, zwiększając wydajność operacyjną.

Zastosowania:

Uchwyt opłatek do powłoki CVD jest specjalnie zaprojektowany do procesów epitaksji półprzewodników, w których niezbędna jest precyzyjna kontrola i integralność materiału. Jest stosowany w technikach takich jak epitaxia wiązki molekularnej (MBE), chemiczne osadzanie pary (CVD) i chemiczne osadzanie pary z metalowo-organizacji (MOCVD), w których uchwyt wafla musi wytrzymać ekstremalne temperatury i środowiska reaktywne.

W epitaxii półprzewodnikowej precyzja ma kluczowe znaczenie dla uprawy wysokiej jakości cienkich warstw na podłożu. Posiadacz waflowy powłoki CVD zapewnia bezpiecznie wspierane i utrzymywane w optymalnych warunkach, przyczyniając się do spójnej produkcji wysokiej jakości materiałów półprzewodników.

Posiadacz waflowy powłoki Semicorex CVD jest zaprojektowany przy użyciu najnowocześniejszych materiałów i zaawansowanych technologii powlekania w celu zaspokojenia wysokich wymagań epitaksji półprzewodnikowej. Zastosowanie nadkrytycznego odkładania się płynu do grubej, jednolitej powłoki TAC zapewnia niezrównaną trwałość, precyzję i długowieczność. Dzięki doskonałej odporności termicznej i chemicznej nasz uchwyt na płytki został zaprojektowany tak, aby zapewnić niezawodną wydajność w najtrudniejszych środowiskach, pomagając poprawić wydajność procesów produkcyjnych półprzewodnikowych.