Grafit pokryty krzemem i węglem ICP

Grafit ICP Silicon Carbon Coated Graphite firmy Semicorex to idealny wybór do wymagających procesów przenoszenia płytek i osadzania cienkowarstwowego. Nasz produkt charakteryzuje się doskonałą odpornością na ciepło i korozję, równomierną jednorodnością termiczną i optymalnymi wzorami laminarnego przepływu gazu.

Wyślij zapytanie

Opis produktu

Nośniki waflowe stosowane w procesach wzrostu epitaksjalnego muszą wytrzymywać wysokie temperatury i ostre czyszczenie chemiczne. Susceptory grafitowe Semicorex ICP Silicon Carbon Coated Graphite zostały zaprojektowane specjalnie dla wymagających zastosowań w urządzeniach do epitaksji. Nasz produkt został zaprojektowany tak, aby wytrzymywał wysokie temperatury i ostre czyszczenie chemiczne, zapewniając trwałość i optymalne rezultaty.
Nasz grafit powlekany węglem krzemowym ICP został zaprojektowany w celu uzyskania najlepszego laminarnego przepływu gazu, zapewniając równomierność profilu termicznego. Pomaga to zapobiegać zanieczyszczeniom lub dyfuzji zanieczyszczeń, zapewniając wysokiej jakości wzrost epitaksjalny na chipie waflowym.
Skontaktuj się z nami już dziś, aby dowiedzieć się więcej o naszym graficie ICP pokrytym węglem krzemowym.

Parametry grafitu powlekanego węglem krzemowym ICP

Główne specyfikacje powłoki CVD-SIC
Właściwości SiC-CVD
Struktura kryształu	Faza β FCC
Gęstość	g/cm³	3.21
Twardość	Twardość Vickersa	2500
Rozmiar ziarna	µm	2 ~ 10
Czystość chemiczna	%	99.99995
Pojemność cieplna	J kg-1 K-1	640
Temperatura sublimacji	℃	2700
Siła Felexuralna	MPa (RT 4-punktowy)	415
Moduł Younga	Gpa (4-punktowe zagięcie, 1300℃)	430
Rozszerzalność cieplna (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Przewodność cieplna	(W/mK)	300