Półprzewodniki prysznicowe

.Płyta rozkładu gazu, często określane jako „głowica prysznicowa”, może przypominać konwencjonalny prysznic, ale jego cena może sięgnąć do setek tysięcy, znacznie wyższej niż typowy prysznic w łazience.

Powierzchnia płyty dystrybucyjnej gazu ma setki, a nawet tysiące drobnych, precyzyjnie ułożonych otworów, przypominających drobno tkaną sieć neuronową. Ta konstrukcja pozwala na dokładną kontrolę przepływu gazu i kąty wtrysku, zapewniając, że każda część obszarze przetwarzania wafla jest równomiernie „kąpana” w gazie procesowym. To nie tylko zwiększa wydajność produkcji, ale także poprawia jakość produktu.

Płyta rozkładu gazu jest integralna z kluczowymi procesami, takimi jak czyszczenie, trawienie i osadzanie. Wpływa bezpośrednio na dokładność procesów półprzewodników i jakość produktów końcowych, co czyni go kluczowym elementem w różnych zastosowaniach dystrybucji gazu.

Podczas procesu reakcji wafla powierzchni powierzchniPrysznicjest gęsto pokryty mikroporami (apertura 0,2-6 mm). Dzięki precyzyjnie zaprojektowanej strukturze kanału i ścieżce gazowej specjalny gaz procesowy musi przejść przez tysiące małych otworów na jednolitej płycie gazowej, a następnie równomiernie osadzone na powierzchni opłat. Warstwa folii w różnych obszarach opłatek musi zapewnić wysoką jednolitość i spójność. Dlatego oprócz wyjątkowo wysokich wymagań dotyczących czystości i odporności na korozję płyta dystrybucji gazu ma ścisłe wymagania dotyczące spójności otworu małych otworów na płycie dystrybucyjnej gazu i burr na wewnętrznej ścianie małych otworów. Jeśli tolerancja wielkości przysłony i odchylenie standardowe są zbyt duże lub na dowolnej wewnętrznej ścianie, grubość osadzonej warstwy folii będzie inna, co bezpośrednio wpłynie na wydajność procesu sprzętu.

Materiał płytki rozkładu gazu jest czasem kruchym materiałem (takim jak jednolity krzem, szkło kwarcowe, ceramika), który jest łatwy do złamania pod działaniem siły zewnętrznej. Jest to również ultra-głębokie otwór w 50-krotnym średnicy mikropuru, a sytuacji cięcia nie można bezpośrednio zaobserwować. Ponadto ciepło cięcia nie jest łatwe w transmisji, a usuwanie wiórów jest trudne, a wiertło jest łatwo zepsute z powodu zablokowania wiórów. Dlatego jego przetwarzanie i przygotowanie jest bardzo trudne.

Ponadto w procesach wspomaganych w osoczu (takich jak PECVD i trawienie na sucho) głowica prysznicowa, jako część elektrody, musi również wygenerować jednolite pole elektryczne poprzez zasilanie RF w celu promowania jednolitego rozkładu plazmy, poprawiając w ten sposób jednolitość trawienia lub osadzania.

Ponieważ gazy stosowane w procesie produkcji półprzewodników mogą być wysokiej temperatury, pod wysokim ciśnieniem lub korozyjnym, głowica prysznicowa jest zwykle wykonana z materiałów odpornych na korozję. W rzeczywistej produkcji, ze względu na różne scenariusze użytkowania i faktyczną wymaganą precyzję, płytkę rozkładu gazu można podzielić na następujące dwie kategorie zgodnie z jego składem materiału:

(1) Metalowa płyta dystrybucji gazu

Materiały płytek dystrybucji gazu metalowego obejmują stop aluminium, stal nierdzewną i metal niklu, wśród których najczęściej stosowanym metalowym materiałem płytowym dystrybucji gazu jest stop aluminium, ponieważ ma dobrą przewodność cieplną i silną odporność na korozję. Jest szeroko dostępny i łatwy do przetworzenia.

(2) Niemetaliczna płyta dystrybucji gazu

Materiały niemetaliczne płytki dystrybucji gazu obejmują pojedynczy kryształowy krzem, szkło kwarcowe i materiały ceramiczne. Wśród nich powszechnie stosowanymi materiałami ceramicznymi są CVD-SIC, ceramika glinu, ceramika azotku krzemu itp.

SemiCorex oferuje wysokiej jakościCVD sic prysznicW przemyśle półprzewodnikowym. Jeśli masz jakieś zapytania lub potrzebujesz dodatkowych szczegółów, nie wahaj się z nami skontaktować.

Kontakt telefon # +86-13567891907

E -mail: sales@semicorex.com