Ultracienki grafit o wysokiej porowatości

Doskonała przyczepność cząstek powierzchniowych i doskonałe właściwości przeciwpyłowe: Ultracienki grafit Semicorex o wysokiej porowatości wykazuje wyjątkową przyczepność cząstek powierzchniowych, zapewniając minimalne wytwarzanie pyłu i utrzymanie czystego środowiska pracy, co jest kluczowe w przypadku wrażliwych zastosowań, takich jak produkcja półprzewodników.

Tolerancja na wysokie temperatury: ultracienki grafit o dużej porowatości może wytrzymać ekstremalne temperatury do 2500°C, dzięki czemu nadaje się do procesów wysokotemperaturowych i środowisk, w których konwencjonalne materiały zawiodą.

Wysoka porowatość do 65%: Wysoka porowatość porowatego grafitu pozwala na efektywny przepływ gazu i płynu, umożliwiając lepsze przenoszenie masy i rozpraszanie ciepła w różnych zastosowaniach.

Ultracienki porowaty grafit o doskonałej obrabialności: Ultracienki grafit o wysokiej porowatości można wytwarzać w ultracienkie arkusze o grubości zaledwie 1,5 mm, zachowując jednocześnie wysoką porowatość, zapewniając elastyczność w projektowaniu i stosowaniu.

Skrawalność w przypadku cylindrycznych kształtów o bardzo cienkich ściankach: Ultracienki grafit o dużej porowatości można obrabiać w cylindryczne kształty o ultracienkich ściankach o grubości ścianek ≤1 mm, oferując wszechstronność w projektowaniu komponentów i funkcjonalności.

Doskonałe właściwości izolacyjne i spójność partii: ultracienki grafit o wysokiej porowatości wykazuje wyjątkowe właściwości izolacyjne i stałą wydajność w każdej partii, zapewniając niezawodne i powtarzalne wyniki w krytycznych zastosowaniach.

Ultraczysty porowaty materiał grafitowy: Ultracienki grafit o wysokiej porowatości jest dostępny w ultraczystej formie, osiągając wysoki poziom czystości niezbędny w wymagających zastosowaniach, takich jak produkcja półprzewodników.

Wysoka wytrzymałość: Pomimo swojej porowatej natury, ultracienki grafit o wysokiej porowatości wykazuje imponującą wytrzymałość, dzięki czemu nadaje się do elementów konstrukcyjnych i zastosowań nośnych.

Zastosowania w produkcji półprzewodników:

Ultracienki grafit o wysokiej porowatości jest wykorzystywany głównie w przemyśle półprzewodników, szczególnie w nowatorskim procesie przenoszenia masy. W procesie tym wykorzystuje się nowe pole termiczne do jednoprzejściowego przenoszenia masy, znacznie zwiększając wydajność przenoszenia i utrzymując stałą szybkość, zmniejszając w ten sposób wpływ rekrystalizacji (unikając dwuprzejściowego przenoszenia masy) i skutecznie minimalizując mikrorurki lub inne powiązane defekty kryształów. Dodatkowo porowaty grafit pomaga zrównoważyć składniki fazy gazowej, izolować śladowe zanieczyszczenia, regulować lokalne temperatury i zmniejszać fizyczne kapsułkowanie cząstek. Spełniając wymagania dotyczące użyteczności kryształów, porowaty grafit umożliwia znaczny wzrost grubości kryształów, co czyni go kluczową technologią umożliwiającą sprostanie wyzwaniu, jakim jest hodowanie grubszych kryształów.