Podłoże waflowe o grubości 30 mm z azotku aluminium

Podłoża waflowe Semicorex o grubości 30 mm z azotku glinu charakteryzują się niezwykłymi właściwościami niezbędnymi w zaawansowanych zastosowaniach półprzewodników. Szerokie pasmo wzbronione umożliwia urządzeniom pracę przy wysokich napięciach i temperaturach, minimalizując jednocześnie upływ prądu, co ma kluczowe znaczenie w energoelektronice. Wysoka przewodność cieplna podłoża waflowego z azotku glinu o grubości 30 mm ma kluczowe znaczenie w zarządzaniu ciepłem wytwarzanym w urządzeniach dużej mocy, skutecznie zwiększając niezawodność i wydajność urządzenia. Co więcej, duże pole przebicia 30-milimetrowego podłoża z azotku glinu pozwala na tworzenie urządzeń, które mogą wytrzymać wysokie pola elektryczne bez awarii, co jest idealne do zastosowań wymagających dużej gęstości mocy i wydajności.

Podłoża waflowe o grubości 30 mm z azotku glinu wykazują wysoką ruchliwość elektronów, co przekłada się na szybsze urządzenia elektroniczne z lepszą charakterystyką częstotliwościową. Ta cecha jest szczególnie korzystna przy wytwarzaniu urządzeń wykorzystujących częstotliwość radiową (RF) i szybkiej elektroniki, gdzie wymagana jest szybka transmisja i przetwarzanie sygnału. Dodatkowo odporność na korozję i promieniowanie podłoża waflowego z azotku glinu o grubości 30 mm sprawia, że ​​jest to wyjątkowy wybór w trudnych warunkach, takich jak zastosowania kosmiczne, gdzie materiały są narażone na działanie gazów korozyjnych i wysokiego poziomu promieniowania. Ta odporność zapewnia długoterminową niezawodność i funkcjonalność urządzeń w ekstremalnych warunkach, dzięki czemu podłoże waflowe z azotku aluminium o grubości 30 mm jest optymalnym podłożem dla urządzeń optoelektronicznych i komponentów elektronicznych dużej mocy/wysokiej częstotliwości.

Obecnie oferujemy naszym klientom standaryzowane, wysokiej jakości produkty monokrystaliczne z azotku glinu o wymiarach 10x10mm, Φ10mm, Φ15mm, Φ20mm, Φ25,4mm, Φ30mm i Φ50,8mm. Ponadto dostarczamy również niepolarne podłoża monokrystaliczne z azotku glinu o powierzchni M w zakresie 10-20 mm. Na indywidualne potrzeby możemy dostosować plasterki do polerowania podłoża monokrystalicznego z azotku glinu w zakresie od 5 mm do 50,8 mm. Ta szeroka oferta zaspokaja różnorodne potrzeby klientów i umożliwia eksplorację różnorodnych granic technologicznych.