Głowica prysznicowa CVD z powłoką SiC

Wykonana z grafitu o wysokiej czystości i otoczona cienką warstwą SiC metodą CVD, głowica prysznicowa CVD z powłoką SiC łączy w sobie korzystne cechy zarówno grafitu, jak i SiC. Efektem tej synergii jest składnik, który nie tylko doskonale zapewnia spójną i dokładną dystrybucję gazów, ale także charakteryzuje się niezwykłą odpornością na warunki termiczne i chemiczne często spotykane w środowiskach osadzania.

Kluczem do funkcjonalności głowicy prysznicowej CVD z powłoką SiC jest jej zdolność do równomiernego rozpraszania gazów prekursorowych na powierzchni podłoża, co zostało osiągnięte dzięki strategicznemu umieszczeniu głowicy nad podłożem i skrupulatnemu projektowaniu małych otworów lub dysz przerywających jej powierzchnię. Ten równomierny rozkład ma kluczowe znaczenie dla osiągnięcia spójnych wyników osadzania.

Wybór SiC jako materiału powłokowego dla głowicy prysznicowej CVD z powłoką SiC nie jest arbitralny, ale wynika z jego doskonałej przewodności cieplnej i stabilności chemicznej. Właściwości te są niezbędne do łagodzenia akumulacji ciepła podczas procesu osadzania i utrzymywania równomiernej temperatury na podłożu, a także zapewniają solidną ochronę przed korozyjnymi gazami i trudnymi warunkami typowymi dla procesów CVD.

Dostosowana do specyficznych wymagań różnych systemów CVD i wymagań procesowych, konstrukcja głowicy prysznicowej CVD z powłoką SiC obejmuje kształt płyty lub dysku wyposażonego w skrupulatnie obliczony układ otworów lub szczelin. Głowica prysznicowa CVD o konstrukcji SiC Coat zapewnia nie tylko równomierną dystrybucję gazu, ale także optymalne natężenie przepływu niezbędne w procesie osadzania, podkreślając rolę komponentu jako filaru w dążeniu do precyzji i jednorodności procesów osadzania materiału.