Płytka nośna do trawienia ICP

Płyta nośna ICP Etching Carrier Plate firmy Semicorex zapewnia doskonałą trwałość i długowieczność podczas przenoszenia płytek i procesów osadzania cienkich warstw. Nasz produkt charakteryzuje się doskonałą odpornością na ciepło i korozję, równomierną jednorodnością termiczną i laminarnym przepływem gazu. Dzięki czystej i gładkiej powierzchni nasz nośnik zapewnia optymalną obsługę nieskazitelnych wafli. Wycofaj wysoką temperaturę, czyszczenie chemiczne, a także wysoką jednorodność termiczną.
Skontaktuj się z nami już dziś, aby dowiedzieć się więcej o naszej płycie nośnej do trawienia ICP.

Parametry płyty nośnej trawiącej ICP

Cechy płyty nośnej trawiącej ICP

- Unikać odklejania się i zapewnić pokrycie całej powierzchni

Odporność na utlenianie w wysokiej temperaturze: Stabilny w wysokich temperaturach do 1600°C

Wysoka czystość: uzyskana przez chemiczne osadzanie z fazy gazowej CVD w warunkach chlorowania w wysokiej temperaturze.

Odporność na korozję: wysoka twardość, gęsta powierzchnia i drobne cząstki.

Odporność na korozję: kwasy, zasady, sól i odczynniki organiczne.

- Uzyskaj najlepszy laminarny przepływ gazu

- Gwarancja równomierności profilu termicznego

- Zapobiegać wszelkim zanieczyszczeniom lub rozprzestrzenianiu się zanieczyszczeń