- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Produkty
- View as
Taca do trawienia plazmowego ICP
Taca do trawienia plazmowego ICP firmy Semicorex została zaprojektowana specjalnie do procesów obróbki płytek w wysokiej temperaturze, takich jak epitaksja i MOCVD. Dzięki stabilnej odporności na utlenianie w wysokiej temperaturze do 1600°C nasze nośniki zapewniają równomierne profile termiczne, laminarne wzorce przepływu gazu oraz zapobiegają zanieczyszczeniu lub dyfuzji zanieczyszczeń.
Czytaj więcejWyślij zapytanie
System trawienia plazmowego ICP
Nośnik SiC Coated firmy Semicorex do systemu trawienia plazmowego ICP to niezawodne i ekonomiczne rozwiązanie do procesów obróbki płytek w wysokiej temperaturze, takich jak epitaksja i MOCVD. Nasze nośniki posiadają drobną powłokę krystaliczną SiC, która zapewnia doskonałą odporność na ciepło, równomierną jednorodność termiczną i trwałą odporność chemiczną.
Czytaj więcejWyślij zapytanie
Plazma sprzężona indukcyjnie (ICP)
Susceptor firmy Semicorex pokryty węglikiem krzemu do plazmy indukcyjnie sprzężonej (ICP) został zaprojektowany specjalnie do procesów przenoszenia płytek w wysokiej temperaturze, takich jak epitaksja i MOCVD. Dzięki stabilnej odporności na utlenianie w wysokiej temperaturze do 1600°C nasze nośniki zapewniają równomierne profile termiczne, laminarny przepływ gazu oraz zapobiegają dyfuzji zanieczyszczeń.
Czytaj więcejWyślij zapytanie
Uchwyt na opłatki do trawienia ICP
Uchwyt na płytki do trawienia ICP firmy Semicorex to idealne rozwiązanie do procesów obróbki płytek w wysokiej temperaturze, takich jak epitaksja i MOCVD. Dzięki stabilnej odporności na utlenianie w wysokiej temperaturze do 1600°C nasze nośniki zapewniają równomierne profile termiczne, laminarny przepływ gazu oraz zapobiegają dyfuzji zanieczyszczeń.
Czytaj więcejWyślij zapytanie
Płytka nośna do trawienia ICP
Płyta nośna ICP Etching Carrier Plate firmy Semicorex to idealne rozwiązanie do wymagających zastosowań waflowych i procesów osadzania cienkich warstw. Nasz produkt zapewnia doskonałą odporność na ciepło i korozję, a nawet równomierność termiczną i laminarny przepływ gazu. Dzięki czystej i gładkiej powierzchni nasz nośnik idealnie nadaje się do przenoszenia nieskazitelnych wafli.
Czytaj więcejWyślij zapytanie
Uchwyt na płytki do procesu trawienia ICP
Uchwyt do płytek Semicorex do procesu trawienia ICP to idealny wybór do wymagających procesów przenoszenia płytek i osadzania cienkich warstw. Nasz produkt charakteryzuje się doskonałą odpornością na ciepło i korozję, równomierną jednorodnością termiczną oraz optymalnymi wzorcami laminarnego przepływu gazu, co zapewnia spójne i niezawodne wyniki.
Czytaj więcejWyślij zapytanie
