Produkty

Jeśli chodzi o procesy obróbki płytek, takie jak epitaksja i MOCVD, wysokotemperaturowa powłoka SiC firmy Semicorex do komór wytrawiania plazmowego jest najlepszym wyborem. Nasze nośniki zapewniają doskonałą odporność na ciepło, równomierną jednorodność termiczną i trwałą odporność chemiczną dzięki naszej drobnej powłoce krystalicznej SiC.

Taca do trawienia plazmowego ICP firmy Semicorex została zaprojektowana specjalnie do procesów obróbki płytek w wysokiej temperaturze, takich jak epitaksja i MOCVD. Dzięki stabilnej odporności na utlenianie w wysokiej temperaturze do 1600°C nasze nośniki zapewniają równomierne profile termiczne, laminarne wzorce przepływu gazu oraz zapobiegają zanieczyszczeniu lub dyfuzji zanieczyszczeń.

Nośnik SiC Coated firmy Semicorex do systemu trawienia plazmowego ICP to niezawodne i ekonomiczne rozwiązanie do procesów obróbki płytek w wysokiej temperaturze, takich jak epitaksja i MOCVD. Nasze nośniki posiadają drobną powłokę krystaliczną SiC, która zapewnia doskonałą odporność na ciepło, równomierną jednorodność termiczną i trwałą odporność chemiczną.

Susceptor firmy Semicorex pokryty węglikiem krzemu do plazmy indukcyjnie sprzężonej (ICP) został zaprojektowany specjalnie do procesów przenoszenia płytek w wysokiej temperaturze, takich jak epitaksja i MOCVD. Dzięki stabilnej odporności na utlenianie w wysokiej temperaturze do 1600°C nasze nośniki zapewniają równomierne profile termiczne, laminarny przepływ gazu oraz zapobiegają dyfuzji zanieczyszczeń.

Uchwyt na płytki do trawienia ICP firmy Semicorex to idealne rozwiązanie do procesów obróbki płytek w wysokiej temperaturze, takich jak epitaksja i MOCVD. Dzięki stabilnej odporności na utlenianie w wysokiej temperaturze do 1600°C nasze nośniki zapewniają równomierne profile termiczne, laminarny przepływ gazu oraz zapobiegają dyfuzji zanieczyszczeń.

Płyta nośna ICP Etching Carrier Plate firmy Semicorex to idealne rozwiązanie do wymagających zastosowań waflowych i procesów osadzania cienkich warstw. Nasz produkt zapewnia doskonałą odporność na ciepło i korozję, a nawet równomierność termiczną i laminarny przepływ gazu. Dzięki czystej i gładkiej powierzchni nasz nośnik idealnie nadaje się do przenoszenia nieskazitelnych wafli.