Susceptor SiC do trawienia ICP

Semicorex SiC Susceptor do ICP Etch jest produkowany z naciskiem na utrzymanie wysokich standardów jakości i spójności. Solidne procesy produkcyjne zastosowane do wytworzenia tych susceptorów zapewniają, że każda partia spełnia rygorystyczne kryteria wydajności, zapewniając niezawodne i spójne wyniki w trawieniu półprzewodników. Ponadto Semicorex jest przygotowany do oferowania szybkich harmonogramów dostaw, co ma kluczowe znaczenie dla dotrzymania kroku szybkim wymaganiom branży półprzewodników, zapewniając dotrzymanie terminów produkcji bez uszczerbku dla jakości. W Semicorex specjalizujemy się w produkcji i dostarczaniu wysokiej wydajności Susceptor SiC do ICP Etch, który łączy jakość z opłacalnością.**

Wyślij zapytanie

Opis produktu

Semicorex SiC Susceptor do ICP Etch słynie z doskonałej przewodności cieplnej, która pozwala na szybkie i równomierne rozprowadzanie ciepła po powierzchni. Cecha ta ma kluczowe znaczenie dla utrzymania stałej temperatury podczas procesu trawienia, zapewniając wysoką precyzję przenoszenia wzoru. Dodatkowo niski współczynnik rozszerzalności cieplnej SiC minimalizuje zmiany wymiarów w zmiennych temperaturach, utrzymując w ten sposób integralność strukturalną i wspierając precyzyjne i równomierne usuwanie materiału.

Jedną z wyjątkowych właściwości susceptora SiC do ICP Etch jest ich odporność na uderzenia plazmy. Ta odporność zapewnia, że susceptor nie ulegnie degradacji ani erozji w trudnych warunkach bombardowania plazmą, co jest powszechne w tych procesach trawienia. Ta trwałość zwiększa niezawodność procesu trawienia i przyczynia się do wytwarzania czystych, dobrze zdefiniowanych wzorów trawienia przy minimalnych defektach.

Susceptor SiC do ICP Etch jest z natury odporny na korozję powodowaną przez silne kwasy i zasady, co jest istotną właściwością materiałów stosowanych w środowiskach trawienia ICP. Ta odporność chemiczna zapewnia, że Susceptor SiC do ICP Etch zachowuje swoje właściwości fizyczne i mechaniczne w miarę upływu czasu, nawet pod wpływem agresywnych odczynników chemicznych. Ta trwałość zmniejsza potrzebę częstej wymiany i konserwacji, obniżając w ten sposób koszty operacyjne i zwiększając czas sprawności zakładów produkujących półprzewodniki.

Susceptor Semicorex SiC do ICP Etch można precyzyjnie zaprojektować tak, aby spełniał określone wymagania wymiarowe, co jest krytycznym czynnikiem w produkcji półprzewodników, gdzie często potrzebne jest dostosowanie w celu dostosowania do różnych rozmiarów płytek i specyfikacji przetwarzania. Ta zdolność adaptacji pozwala na lepszą integrację z istniejącym sprzętem i liniami technologicznymi, optymalizując ogólną wydajność i skuteczność procesu trawienia.