Semicorex jest zaufanym dostawcą i producentem grafitowego susceptora z powłoką z węglika krzemu do MOCVD. Nasz produkt został specjalnie zaprojektowany, aby zaspokoić potrzeby przemysłu półprzewodników w zakresie narastania warstwy epitaksjalnej na chipie waflowym. Produkt stosowany jako płyta środkowa w MOCVD, z przekładnią lub w kształcie pierścienia. Ma wysoką odporność na ciepło i korozję, dzięki czemu idealnie nadaje się do stosowania w ekstremalnych warunkach.
Nasz susceptor grafitowy z powłoką z węglika krzemu do MOCVD ma kilka kluczowych cech, które wyróżniają go na tle konkurencji. Zapewnia pokrycie całej powierzchni, zapobiegając odpryskiwaniu i posiada odporność na utlenianie w wysokich temperaturach, zapewniając stabilność nawet w wysokich temperaturach do 1600°C. Produkt wytwarzany jest z wysoką czystością poprzez chemiczne osadzanie z fazy gazowej CVD w warunkach chlorowania w wysokiej temperaturze. Ma gęstą powierzchnię z drobnymi cząsteczkami, dzięki czemu jest wysoce odporny na korozję powodowaną przez kwasy, zasady, sól i odczynniki organiczne.
Nasz susceptor grafitowy z powłoką z węglika krzemu do MOCVD został zaprojektowany w celu uzyskania najlepszego laminarnego przepływu gazu, zapewniając równomierność profilu termicznego. Zapobiega wszelkim zanieczyszczeniom i dyfuzji zanieczyszczeń, zapewniając wysokiej jakości wzrost epitaksjalny na chipie waflowym.
Parametry susceptora grafitowego z powłoką z węglika krzemu dla MOCVD
Główne specyfikacje powłoki CVD-SIC |
||
Właściwości SiC-CVD |
||
Struktura kryształu |
Faza β FCC |
|
Gęstość |
g/cm³ |
3.21 |
Twardość |
Twardość Vickersa |
2500 |
Rozmiar ziarna |
um |
2 ~ 10 |
Czystość chemiczna |
% |
99.99995 |
Pojemność cieplna |
J kg-1 K-1 |
640 |
Temperatura sublimacji |
℃ |
2700 |
Siła Felexuralna |
MPa (RT 4-punktowy) |
415 |
Moduł Younga |
Gpa (4-punktowe zagięcie, 1300℃) |
430 |
Rozszerzalność cieplna (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Przewodność cieplna |
(W/mK) |
300 |
Cechy grafitowego susceptora z powłoką z węglika krzemu dla MOCVD
- Unikać odklejania się i zapewnić pokrycie całej powierzchni
Odporność na utlenianie w wysokiej temperaturze: Stabilny w wysokich temperaturach do 1600°C
Wysoka czystość: uzyskana przez chemiczne osadzanie z fazy gazowej CVD w warunkach chlorowania w wysokiej temperaturze.
Odporność na korozję: wysoka twardość, gęsta powierzchnia i drobne cząstki.
Odporność na korozję: kwasy, zasady, sól i odczynniki organiczne.
- Uzyskaj najlepszy laminarny przepływ gazu
- Gwarancja równomierności profilu termicznego
- Zapobiegać wszelkim zanieczyszczeniom lub rozprzestrzenianiu się zanieczyszczeń