8. cal zwolennik EPI

Semicorex 8-calowy wrażliwość EPI jest częścią wsparcia opłatek zaawansowanych technologicznie, która jest stosowana w operacjach osadzania epitaksjalnego do produkcji półprzewodników. Jest wytwarzany z wystarczająco wbudowanej grafitowej materiału rdzenia powlekanego grubą, ciągłą jednolitą warstwą węgla krzemu (SIC) stosowanego w reaktorach epitaksjalnych, w których ważna jest stabilność termiczna, odporność chemiczna i jednolitość osadzania. Średnica 8-calowa jest znormalizowana do specyfikacji branżowej dla urządzeń, które przetwarza 200 mM waflów, a zatem zapewnia niezawodną integrację z istniejącą wielozadaniową wielozadaniową wielozadaniową.  

Wzrost epitaksjalny wymaga wysoce kontrolowanego środowiska termicznego i stosunkowo obojętnych interakcji materiału. W obu przypadkach grafit powlekany SIC będzie wykonywany pozytywnie. Rdzeń grafitowy ma bardzo wysoką przewodność cieplną i bardzo niski rozszerzenie cieplne, co oznacza, że z wystarczająco zaprojektowanym źródłem grzewczym, że ciepło z rdzenia grafitowego można szybko przenieść i utrzymać stałe gradienty temperatury na powierzchni opłatek. Zewnętrzna warstwa SIC jest w efekcie zewnętrzną skorupą podatnika. Warstwa SIC chroni rdzeń podatności przed wysokimi temperaturami, żrące produkty uboczne gazu procesowego, takie jak wodór, wysoce korozyjne właściwości chlorowanego silanu i mechaniczne zniszczenie ze względu na skumulowany charakter zużycia mechanicznego spowodowanego nad powtarzającymi się cyklami ogrzewania. Ogólnie rzecz biorąc, możemy rozsądnie przewidzieć, że tak długo, jak ta podwójna struktura jest wystarczająco gruba, podatnik pozostanie zarówno mechanicznie słynny, jak i chemicznie obojętny w okresach przedłużonego ogrzewania. Podsumowując, zaobserwowaliśmy to empirycznie podczas pracy w odpowiednich zakresach termicznych, a warstwa SIC zapewnia niezawodną barierę między procesem a rdzeniem graficznym, maksymalizując możliwości jakości produktu przy maksymalizowaniu długości usługi narzędzi.

Składniki grafitowe mają istotną i niezwykle ważną rolę w procesach produkcyjnych półprzewodników, a jakość materiału grafitowego jest istotnym czynnikiem wydajności produktu. W SEMICOREX mamy rygorystyczną kontrolę na każdym etapie naszego procesu produkcyjnego, abyśmy mogli mieć wysoce powtarzalną homogeniczność materialną i spójność od partii do partii. Dzięki naszemu małemu procesowi produkcji partii mamy małe piece karbonizacyjne o objętości komory zaledwie 50 metrów sześciennych, co pozwala nam utrzymać ściślejszą kontrolę w procesie produkcyjnym. Każdy blok grafitu przechodzi indywidualne monitorowanie, śledzące w całym naszym procesie. Oprócz wielopunktowego monitorowania temperatury w piecu śledzimy temperaturę na powierzchni materiału, minimalizując odchylenia temperatury do bardzo wąskiego zakresu w całym procesie produkcyjnym. Nasza dbałość o zarządzanie termicznie pozwala nam zminimalizować stres wewnętrzny i wytwarzać wysoce stabilne i powtarzalne komponenty grafitowe do zastosowań półprzewodnikowych.

Powłoka SIC jest stosowana przez chemiczne osadzanie pary (CVD) i wytwarza stałą, czystą wykończoną powierzchnię z matrycą drobnoziarnistej, która zmniejsza wytwarzanie cząstek; Dlatego czysty proces CVD jest wzmocniony. Kontrola procesu CVD grubości powlekanej warstwy zapewnia jednolitość i jest ważna dla płaskości i stabilności wymiarowej poprzez cykliczne cykliczne. Ostatecznie zapewnia to doskonałą płaszczyznę opłat, co powoduje najbardziej równe osadzanie się warstw podczas procesu epitaxii.-kluczowy parametr do osiągnięcia wysokowydajnych urządzeń półprzewodników, takich jak MOSFETE, IGBT i składniki RF.

Spójność wymiarowa jest kolejną fundamentalną zaletą 8 -calowej podatności EPI wyprodukowanej przez Semicorex. Podatnik jest zaprojektowany w celu ścisłej tolerancji, co powoduje dużą zgodność z robotami obsługującymi płytki i precyzyjną dopasowanie w strefach grzewczych. Powierzchnia podatkowa jest wypolerowana i dostosowana do konkretnych warunków termicznych i przepływowych określonego reaktora epitaksjalnego, w którym podatnik zostanie wdrożony. Opcje, na przykład otwory do szpilki, wgłębienia kieszonkowe lub powierzchnie przeciwpoślizgowe można dopasować do określonych wymagań projektów i procesów narzędzi OEM.

Każde podatnik przechodzi wiele testów zarówno pod kątem wydajności cieplnej, jak i integralności powłoki podczas produkcji. Metody kontroli jakości, w tym pomiar i weryfikacja wymiarów, testy adhezji powłoki, testy odporności na wstrząsy termiczne i testy odporności chemicznej, aby zapewnić niezawodność i wydajność osiągnięte nawet w agresywnych środowiskach epitaksjalnych. Rezultatem jest produkt, który ostatecznie spełnia i przekracza obecne wymagające wymagania branży wytwarzania półprzewodników.

Sekticorex 8 -calowy wrażliwość EPI jest wykonana z grafitu powlekanego SIC, który równoważy przewodność cieplną, sztywność mechaniczną i bezwładność chemiczną. 8-calowa podatnik jest kluczowym elementem zastosowań o dużej objętości epitaksji ze względu na jej sukces w wytwarzaniu stabilnego, czystego, obsługi opłatek w wysokich temperaturach, co powoduje, że procesy epitaksjalne o wysokiej stopnie stopniowej i wysokiej uwadze. 8-calowy rozmiar podatnika EPI jest najczęściej widoczny w standardowym 8-calowym sprzęcie na rynku i jest wymienny z istniejącym sprzętem klientów. W swojej standardowej konfiguracji podatnik EPI jest wysoce konfigurowalny.