Susceptor planetarny MOCVD dla półprzewodników

Semicorex to zaufana marka w branży półprzewodników, dostarczająca wysokiej jakości susceptor planetarny MOCVD do półprzewodników. Nasz produkt został zaprojektowany, aby zaspokoić specyficzne potrzeby producentów półprzewodników poszukujących nośnika, który może zapewnić doskonałą wydajność, stabilność i trwałość. Skontaktuj się z nami już dziś, aby dowiedzieć się więcej o naszym produkcie i o tym, jak możemy Ci pomóc w zaspokojeniu Twoich potrzeb w zakresie produkcji półprzewodników.

Wyślij zapytanie

Opis produktu

Nasz susceptor planetarny MOCVD do półprzewodników charakteryzuje się odpornością na utlenianie w wysokiej temperaturze, co zapewnia jego stabilność w wysokich temperaturach do 1600°C. Jest również bardzo czysty, uzyskiwany poprzez chemiczne osadzanie z fazy gazowej CVD w warunkach chlorowania w wysokiej temperaturze, co zapewnia jednorodność i konsystencję produktu, a nawet profil termiczny i laminarny wzór przepływu gazu.
Skontaktuj się z nami już dziś, aby dowiedzieć się więcej o naszym susceptorze planetarnym MOCVD do półprzewodników.

Parametry susceptora planetarnego MOCVD dla półprzewodników

Główne specyfikacje powłoki CVD-SIC
Właściwości SiC-CVD
Struktura kryształu	Faza β FCC
Gęstość	g/cm³	3.21
Twardość	Twardość Vickersa	2500
Rozmiar ziarna	um	2 ~ 10
Czystość chemiczna	%	99.99995
Pojemność cieplna	J kg-1 K-1	640
Temperatura sublimacji	℃	2700
Siła Felexuralna	MPa (RT 4-punktowy)	415
Moduł Younga	Gpa (4-punktowe zagięcie, 1300℃)	430
Rozszerzalność cieplna (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Przewodność cieplna	(W/mK)	300

Cechy susceptora grafitowego powlekanego SiC dla MOCVD

- Unikać odklejania się i zapewnić pokrycie całej powierzchni
Odporność na utlenianie w wysokiej temperaturze: Stabilny w wysokich temperaturach do 1600°C
Wysoka czystość: uzyskana przez chemiczne osadzanie z fazy gazowej CVD w warunkach chlorowania w wysokiej temperaturze.
Odporność na korozję: wysoka twardość, gęsta powierzchnia i drobne cząstki.
Odporność na korozję: kwasy, zasady, sól i odczynniki organiczne.
- Uzyskaj najlepszy laminarny przepływ gazu
- Gwarancja równomierności profilu termicznego
- Zapobiegać wszelkim zanieczyszczeniom lub rozprzestrzenianiu się zanieczyszczeń