Głowica prysznicowa Semicorex CVD SiC to główny element stosowany w sprzęcie do trawienia półprzewodników, służący zarówno jako elektroda, jak i przewód dla gazów trawiących. Wybierz Semicorex ze względu na doskonałą kontrolę materiału, zaawansowaną technologię przetwarzania oraz niezawodną i długotrwałą wydajność w wymagających zastosowaniach półprzewodników.*
Czytaj więcejWyślij zapytanieMetalowa głowica prysznicowa, znana jako płyta rozprowadzająca gaz lub głowica prysznicowa gazowa, jest krytycznym elementem szeroko stosowanym w procesach produkcji półprzewodników. Jej podstawową funkcją jest równomierne rozprowadzanie gazów w komorze reakcyjnej, zapewniając równomierny kontakt materiałów półprzewodnikowych z procesem gazy.**
Czytaj więcejWyślij zapytanieSemicorex SiC Ceramic Seal Part stanowi świadectwo najnowocześniejszej wiedzy o materiałach i umiejętności inżynierii, zaprojektowanej tak, aby spełniać rygorystyczne wymagania wysokowydajnych zastosowań uszczelnień mechanicznych w różnych gałęziach przemysłu.**
Czytaj więcejWyślij zapytanieGrzejnik MOCVD firmy Semicorex to wysoce zaawansowany i skrupulatnie zaprojektowany komponent, który oferuje wiele zalet, w tym wyjątkową czystość chemiczną, sprawność cieplną, przewodność elektryczną, wysoką emisyjność, odporność na korozję, nieutlenialność i wytrzymałość mechaniczną.**
Czytaj więcejWyślij zapytanieSusceptor Semicorex MOCVD 3x2’’ opracowany przez firmę Semicorex stanowi szczyt innowacji i doskonałości inżynieryjnej, specjalnie dostosowany do skomplikowanych wymagań współczesnych procesów produkcji półprzewodników.**
Czytaj więcejWyślij zapytanieSemicorex TaC Coating Wafer Susceptor to grafitowa taca pokryta węglikiem tantalu, stosowana do epitaksjalnego wzrostu węglika krzemu w celu poprawy jakości i wydajności płytki. Wybierz Semicorex ze względu na zaawansowaną technologię powlekania i trwałe rozwiązania, które zapewniają doskonałe wyniki epitaksji SiC i dłuższą żywotność susceptora.*
Czytaj więcejWyślij zapytanie