Płyta powlekana SIC

Płyta powlekana SemiCorex SIC to zaprojektowany komponent o wysokiej wydajności specjalnie zaprojektowany do sprzętu do wzrostu epitaxialnego (EPI), wymagającego stabilnych, wysokiej czystości do tworzenia filmów wysokiej jakości. Jest to grafitowy rdzeń o wysokiej wytrzymałości, równomiernie i gęsto powleczony węglikiem krzemu (SIC), osiągając niezrównaną oporność termiczną i mechaniczną grafitu o wysokiej wytrzymałości w połączeniu ze stabilnością chemiczną i trwałością powierzchni SIC. Płyta pokryta półkorami SIC jest zbudowana w celu utrzymania ekstremalnych rygorów procesów epitaksjalnych dla złożonych półprzewodników, w tym SIC i GAN.

Rdzeń grafitowy płyty powlekanej SiC ma wyjątkową przewodność cieplną, niską gęstość i doskonałą odporność na wstrząs cieplny. Umiarkowanie niska masa termiczna rdzenia grafitowego zrównoważona z doskonałą przewodnością cieplną umożliwia szybki rozkład ciepła równomiernie w procesie, w którym cykle temperaturowe odbywają się przy dużych prędkościach. Zewnętrzna warstwa SIC osadzona przez chemiczne odkładanie pary (CVD) oferuje barierę ochronną, która zwiększa twardość, odporność na korozję i bezwładność chemiczną, oferując natychmiastową wartość w ograniczaniu lub zapobieganiu wytwarzaniu cząstek. Ta stała pierwiastkowa powierzchnia w połączeniu z fizycznymi charakterystykami bazy grafitowej zapewniają bardzo wysokie środowisko procesu czystości z bardzo niewielkim lub żadnym ryzykiem wytwarzania defektów na warstwach epitaksjalnych.

Precyzja wymiarowa i płaskość powierzchni są również niezbędnymi atrybutami płyty powlekanej SIC. Każda płyta jest obrobiona i pokryta ciasnymi tolerancjami w celu zapewnienia jednolitości i powtarzalności w zakresie wydajności procesu. Gładka i obojętna powierzchnia zmniejsza miejsca zarodkowania dla niepożądanego odkładania folii i poprawia jednorodność płytki na powierzchni płyty.

W reaktorach epitaksjalnych płyta powlekana SIC jest zwykle wdrażana jako podatnik, wkładka lub tarcza termiczna, aby nadać strukturę i działać jako przetwarzana pożywka przenoszenia ciepła do płytki. Stabilna wydajność wpłynie bezpośrednio na jakość kryształów, wydajność i wydajność.