Tacka na wafle SiC

Taca waflowa Semicorex SiC, działająca jako kluczowy element aparatu MOCVD, utrzymuje podłoża monokrystaliczne i zarządza nimi termicznie. Jego wyjątkowe właściwości użytkowe, w tym doskonała stabilność termiczna i jednorodność, a także hamowanie korozji itd., mają kluczowe znaczenie dla wysokiej jakości wzrostu materiałów epitaksjalnych. Te cechy zapewniają stałą jednorodność i czystość cienkich warstw.

Wzbogacona powłoką SiC, taca waflowa SiC znacznie poprawia przewodność cieplną, ułatwiając szybką i równomierną dystrybucję ciepła, niezbędną dla równomiernego wzrostu epitaksjalnego. Zdolność tacy waflowej SiC do skutecznego pochłaniania i emitowania ciepła utrzymuje stabilną i stałą temperaturę, niezbędną do precyzyjnego osadzania cienkich warstw. Ten równomierny rozkład temperatury ma kluczowe znaczenie dla wytwarzania wysokiej jakości warstw epitaksjalnych, które są niezbędne do działania zaawansowanych urządzeń półprzewodnikowych.

Niezawodne działanie i trwałość tacy waflowej SiC zmniejszają częstotliwość wymian, minimalizując przestoje i koszty konserwacji. Jego solidna konstrukcja i doskonałe możliwości operacyjne zwiększają wydajność procesu, zwiększając w ten sposób produktywność i opłacalność w produkcji półprzewodników.

Dodatkowo tacka waflowa Semicorex SiC wykazuje doskonałą odporność na utlenianie i korozję w wysokich temperaturach, co dodatkowo zapewnia jej trwałość i niezawodność. Jego wysoka wytrzymałość termiczna, charakteryzująca się znaczną temperaturą topnienia, pozwala mu wytrzymać rygorystyczne warunki termiczne właściwe procesom wytwarzania półprzewodników.