Susceptor epitaksjalny z monokrystalicznego krzemu

Idealny do epitaksji grafitowej i procesów przenoszenia płytek, ultraczysty, monokrystaliczny krzemowy susceptor epitaksjalny Semicorex zapewnia minimalne zanieczyszczenie i zapewnia wyjątkowo długą żywotność. Nasze produkty mają dobrą przewagę cenową i obejmują wiele rynków europejskich i amerykańskich. Z niecierpliwością czekamy na zostanie Twoim długoterminowym partnerem w Chinach.

Wyślij zapytanie

Opis produktu

Semicorex Monocrystalline Silicon Epitaksjalny susceptor to produkt grafitowy pokryty wysoko oczyszczonym SiC, który ma wysoką odporność na ciepło i korozję. Nośnik pokryty węglikiem krzemu CVD stosowany w procesach tworzenia warstwy epitaksjalnej na płytkach półprzewodnikowych, która charakteryzuje się wysoką przewodnością cieplną i doskonałymi właściwościami rozprowadzania ciepła.
Nasz monokrystaliczny susceptor epitaksjalny z krzemu został zaprojektowany w celu uzyskania najlepszego laminarnego przepływu gazu, zapewniając równomierność profilu termicznego. Pomaga to zapobiegać zanieczyszczeniom lub dyfuzji zanieczyszczeń, zapewniając wysokiej jakości wzrost epitaksjalny na chipie waflowym.
Skontaktuj się z nami już dziś, aby dowiedzieć się więcej o naszym susceptorze epitaksjalnym z krzemu monokrystalicznego.

Parametry susceptora epitaksjalnego z krzemu monokrystalicznego

Główne specyfikacje powłoki CVD-SIC
Właściwości SiC-CVD
Struktura kryształu	Faza β FCC
Gęstość	g/cm³	3.21
Twardość	Twardość Vickersa	2500
Rozmiar ziarna	µm	2 ~ 10
Czystość chemiczna	%	99.99995
Pojemność cieplna	J·kg-1 ·K-1	640
Temperatura sublimacji	℃	2700
Siła Felexuralna	MPa (RT 4-punktowy)	415
Moduł Younga	Gpa (4-punktowe zagięcie, 1300℃)	430
Rozszerzalność cieplna (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Przewodność cieplna	(W/mK)	300

Cechy susceptora epitaksjalnego z krzemu monokrystalicznego

- Zarówno podłoże grafitowe, jak i warstwa węglika krzemu mają dobrą gęstość i mogą odgrywać dobrą rolę ochronną w wysokich temperaturach i korozyjnych środowiskach pracy.
- Susceptor pokryty węglikiem krzemu stosowany do wzrostu monokryształów ma bardzo dużą płaskość powierzchni.
- Zmniejsz różnicę współczynnika rozszerzalności cieplnej pomiędzy podłożem grafitowym a warstwą węglika krzemu, skutecznie poprawiaj siłę wiązania, aby zapobiec pękaniu i rozwarstwianiu.
- Zarówno podłoże grafitowe, jak i warstwa węglika krzemu mają wysoką przewodność cieplną i doskonałe właściwości rozprowadzania ciepła.
- Wysoka temperatura topnienia, odporność na utlenianie w wysokiej temperaturze, odporność na korozję.