Rurka pieca dyfuzyjnego SiC

Wysoka wytrzymałość na zginanie: Rurka pieca dyfuzyjnego Semicorex SiC charakteryzuje się wytrzymałością na zginanie przekraczającą 200 MPa, zapewniając wyjątkową wydajność mechaniczną i integralność strukturalną w warunkach dużych naprężeń typowych dla procesów produkcji półprzewodników.

Wyjątkowa odporność na utlenianie: Te rury pieca dyfuzyjnego SiC wykazują doskonałą odporność na utlenianie, najlepszą spośród wszystkich ceramiki nietlenkowej. Ta cecha zapewnia długoterminową stabilność i wydajność w środowiskach o wysokiej temperaturze, zmniejszając ryzyko degradacji i wydłużając żywotność rur.

Doskonała odporność na korozję: Chemiczna obojętność rur pieca dyfuzyjnego SiC zapewnia doskonałą odporność na korozję, dzięki czemu rury te idealnie nadają się do stosowania w trudnych warunkach chemicznych często spotykanych w obróbce półprzewodników.

Wysoka odporność na zużycie: Rura pieca dyfuzyjnego SiC jest bardzo odporna na zużycie, co ma kluczowe znaczenie dla utrzymania stabilności wymiarowej i zmniejszenia wymagań konserwacyjnych podczas długich okresów użytkowania w warunkach ściernych.

Niski współczynnik tarcia: Niski współczynnik tarcia rury pieca dyfuzyjnego SiC zmniejsza zużycie zarówno rur, jak i płytek, zapewniając płynną pracę i minimalizując ryzyko zanieczyszczenia podczas przetwarzania półprzewodników.

Doskonałe właściwości mechaniczne w wysokich temperaturach: Rura pieca dyfuzyjnego SiC wykazuje najlepsze właściwości mechaniczne w wysokiej temperaturze spośród znanych materiałów ceramicznych, w tym wyjątkową wytrzymałość i odporność na pełzanie. Dzięki temu jest szczególnie odpowiedni do zastosowań wymagających długoterminowej stabilności w podwyższonych temperaturach.

Z powłoką CVD: Powłoka Semicorex Chemical Vapor Deposition (CVD) SiC osiąga poziom czystości większy niż 99,9995%, przy zawartości zanieczyszczeń poniżej 5 ppm i szkodliwych zanieczyszczeń metalicznych poniżej 1 ppm. Proces powlekania CVD zapewnia, że ​​rury spełniają rygorystyczne wymagania dotyczące szczelności próżniowej 2-3 Torr, niezbędne w środowiskach produkcji precyzyjnych półprzewodników.

Zastosowanie w piecach dyfuzyjnych: Te rury pieca dyfuzyjnego SiC zostały specjalnie zaprojektowane do stosowania w piecach dyfuzyjnych, gdzie odgrywają kluczową rolę w procesach wysokotemperaturowych, takich jak domieszkowanie i utlenianie. Ich zaawansowane właściwości materiałowe zapewniają, że wytrzymają wymagające warunki tych procesów, zwiększając w ten sposób wydajność i niezawodność produkcji półprzewodników.