Płytka trawiąca ICP z węglika krzemu

Płytka trawiąca ICP z węglika krzemujest kompetentny w zapewnianiu stabilnego podparcia i precyzyjnego pozycjonowania płytek podczas operacji trawienia, skutecznie zapobiegając zmniejszeniu precyzji trawienia spowodowanemu wibracjami lub przemieszczeniem.

Płytka trawiąca ICP z węglika krzemu ma możliwości zarządzania ciepłem. Doskonała przewodność cieplnaCeramika SICdaje płytce trawiącej ICP z węglika krzemu zdolność szybkiego rozpraszania ciepła, co pomaga zapobiegać miejscowemu przegrzaniu przedmiotu obrabianego i zapewnia jednolitość temperatury trawienia, poprawiając w ten sposób jakość trawienia. Ceramika SiC ma niski współczynnik rozszerzalności cieplnej, co pozwala płycie trawiącej z węglika krzemu ICP zachować dobrą stabilność wymiarową i zmniejszyć przemieszczenie lub deformację przedmiotu obrabianego spowodowane rozszerzalnością cieplną.

Opierając się na doskonałej twardości i właściwościach wytrzymałościowych, płyta trawiąca z węglika krzemu ICP wykazuje zdolność do tolerowania naprężeń mechanicznych i uderzeń plazmy występujących podczas procesu trawienia przy minimalnych deformacjach lub uszkodzeniach. Zdolność ta skutecznie poprawia wydajność i wydajność produkcji urządzeń półprzewodnikowych.

Środowisko operacyjne ICP wymaga czystości na poziomie półprzewodników. Płyta trawiąca ICP z węglika krzemu firmy Semicorex może w pełni spełnić ten wymóg, zapewniając wyjątkową odporność na gazy chemiczne (takie jak chlor i fluor) oraz plazmę w środowiskach trawienia ICP. Ta istotna cecha utrzymuje środowisko procesowe w czystości poprzez zmniejszenie ilości zanieczyszczeń uwalnianych podczas operacji trawienia.

Semicorex stawia na wygodę użytkownika, oferując spersonalizowane projekty płytek trawiących ICP z węglika krzemu, które bezproblemowo integrują się z istniejącymi systemami wytrawiania ICP i są kompatybilne z różnymi konfiguracjami. Pozwala to na płynne przejście, co czyni go idealnym rozwiązaniem do modernizacji dla producentów sprzętu.