Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD) odnosi się do technologii procesowej, w której wiele reagentów gazowych pod różnymi ciśnieniami cząstkowymi ulega reakcji chemicznej w określonych warunkach temperatury i ciśnienia. Powstała substancja stała osadza się na powierzchni materiału podłoża, uzysku......
Czytaj więcejW miarę stopniowego wzrostu globalnej akceptacji pojazdów elektrycznych w nadchodzącej dekadzie węglik krzemu (SiC) stanie przed nowymi możliwościami rozwoju. Przewiduje się, że producenci półprzewodników mocy oraz operatorzy branży motoryzacyjnej będą aktywniej uczestniczyć w budowie łańcucha warto......
Czytaj więcejWe współczesnej elektronice, optoelektronice, mikroelektronice i informatyce niezbędne są podłoża półprzewodnikowe i technologie epitaksjalne. Stanowią solidną podstawę do produkcji wysokowydajnych i niezawodnych urządzeń półprzewodnikowych. W miarę ciągłego postępu technologicznego, podłoża półprze......
Czytaj więcejJako materiał półprzewodnikowy o szerokiej przerwie energetycznej (WBG), większa różnica energii SiC zapewnia mu wyższe właściwości termiczne i elektroniczne w porównaniu z tradycyjnym Si. Ta funkcja umożliwia urządzeniom zasilającym pracę przy wyższych temperaturach, częstotliwościach i napięciach.
Czytaj więcejWęglik krzemu (SiC) odgrywa ważną rolę w produkcji energoelektroniki i urządzeń wysokiej częstotliwości ze względu na swoje doskonałe właściwości elektryczne i termiczne. Jakość i poziom domieszkowania kryształów SiC bezpośrednio wpływają na wydajność urządzenia, dlatego precyzyjna kontrola domieszk......
Czytaj więcej